Verglichen mit konventionellen Schweissverfahren punktet die torsionale Methode der TELSONIC AG speziell bei der Membranverschweissung in vielerlei Hinsicht: Sämtliche Teile, die in der Aufnahme liegen sowie die Membrane selbst, sind bei diesem Verfahren einer geringeren Belastung ausgesetzt. Dadurch können komplexere Geometrien im Aufnahmeteil verwirklicht werden. Es entstehen zudem keine Schädigungen durch den sogenannten „Membraneffekt“ und die Membrane selbst bleibt an der Schweissstelle stabil. Das Resultat: Ein stabiler Prozess bei großem Parameterfenster und geringem Energieeintrag.